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新聞資訊
磁控濺射是一種物理氣相沉積方法,它可以通過使用施加到二極管濺射靶上的特殊形成的磁場來沉積各種材料,包括金屬靶材、合金靶材、陶瓷靶材等.沉積速率或成膜速率是衡量磁控濺射機效率的重要參數.影響沉積速率的因素有很多,包括工作氣體的種類、工作氣體的壓力、濺射靶的溫度、磁場強度等.影響磁控濺射靶材鍍膜沉積速率的有3個重要因素:濺射電壓、電流和功率....
通常靶材為多晶結構,晶粒大小可由微米到毫米量級.晶粒越細小則晶界面積越大,對性能的影響也越大.對于同一種靶材,晶粒細小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快;而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻.據研究發現,若將鈦靶的晶粒尺寸控制在100um以下,且晶粒大小的變化保持在20%以內,其濺射所得的薄膜的質量可得到大幅度的改善....
鎢鈮靶材具有高強度、高硬度、耐磨、耐腐蝕和良好耐熱性能等特點，因而廣泛應用于高壓、高轉速、高溫、腐蝕性介質等工作環境。然而，在濺射過程中，靶材的邊緣處會留有濺射產生的顆粒物，而這些顆粒物一旦剝落，不僅會影響濺射環境，還降低產品質量。...
靶材是制備薄膜的主要材料之一，主要應用于集成電路、平板顯示、太陽能電池、記錄媒體、智能玻璃等，對材料純度和穩定性要求高。...
為確保沉積薄膜的質量，靶材的質量必須嚴格控制，經大量實踐，影響鈦靶材質量的主要因素包括純度、平均晶粒尺寸、結晶取向與結構均勻性、幾何形狀與尺寸等。...
并非完全不導電，利用了分子在薄膜狀態下的不連續性金屬或金屬化合物都具有導電性，只是導電率不同。但是，當金屬或金屬化合物呈一種薄膜的狀態時，其相應的物理特性會有所不...
靶材安裝過程中最重要的注意事項是一定要確保在靶材和濺射槍冷卻壁之間建立很好的導熱連接.如果冷卻壁的翹曲程度嚴重或背板翹曲嚴重會造成靶材安裝時發生開裂或彎曲,背靶到靶...
加熱方式分為: (1)電阻加熱;(2)感應加熱;(3)電子束加熱;(4)雷射加熱;(5)電弧加熱. 各自具有的特點 : (1)電阻加熱:這是一種最簡單的加熱方法,設備便宜、操作容易是其優點. (2)感應加熱:加熱...
磁控濺射法具有設備簡單、鍍膜面積大、基面升溫緩慢以及成本相對較低的特點,在科研領域得到了廣泛的應用,本文以作者淺薄理解為基礎,磁控濺射鍍膜技術為例,從以下幾個方面帶讀者...
膜上有灰塵點、白霧、油斑、指紋印、口水點等等統稱為膜臟，一般發生在膜內或膜外，是鍍膜產品的常見問題。部分是鍍膜工序的本身造成的，部分是前工程遺留的問題，鍍膜最終的...
